拋光粉

拋光粉通常由氧化鈰、氧化鋁、氧化硅、氧化鐵、氧化鋯、氧化鉻等組份組成，不同的材料的硬度不同，在水中的化學性質也不同，因此使用場合各不相同。氧化鋁和氧化鉻的莫氏硬度為9，氧化鈰和氧化鋯為7，氧化鐵更低。氧化鈰與硅酸鹽玻璃的化學活性較高，硬度也相當，因此廣泛用于玻璃的拋光。

為了增加氧化鈰的拋光速度，通常在氧化鈰拋光粉加入氟以增加磨削率。鈰含量較低的混合稀土拋光粉通常摻有3一8的氟；純氧化鈰拋光粉通常不摻氟。對ZF或F系列的玻璃來說，因為本身硬度較小，而且材料本身的氟含量較高，因此應選用不含氟的拋光粉為好。

氧化鈰的顆粒度

粒度越大的氧化鈰，磨削力越大，越適合于較硬的材料，ZF玻璃應該用偏細的拋光粉。要注意的是，所有的氧化鈰的顆粒度都有一個分布問題，平均粒徑或中位徑D50的大小只決定了拋光速度的快慢，而最大粒徑Dmax決定了拋光精度的高低。因此，要得到高精度要求，必須控制拋光粉的最大顆粒。

拋光粉的硬度

拋光粉的真實硬度與材料有關，如氧化鈰的硬度就是莫氏硬度7左右，各種氧化鈰都差不多。但不同的氧化鈰體給人感覺硬度不同，是因為氧化鈰拋光粉通常為團聚體。當然，有的拋光粉中加入氧化鋁等較硬的材料，表現出來的磨削率和耐磨性都會提高。

拋光漿料的濃度

拋光過程中漿料的濃度決定了拋光速度，濃度越大拋光速度越高。使用小顆粒拋光粉時，漿料濃度應適當調低。

       

對拋光粉的要求

1.顆粒度應均勻，硬度一般應比被拋光材料稍硬；

2.拋光粉應純潔，不含有可能引起劃痕的雜質；

3.應具有一定的晶格形態(tài)和缺陷，并有適當的自銳性；

4.應具有良好的分散性和吸附性；

5.化學穩(wěn)定性好，不致腐蝕工件。

拋光粉的種類和性能

常用的拋光粉主要有氧化鈰（Ce02）。氧化鈰拋光粉顆粒呈多邊形，棱角明顯，平均直徑約2微米，莫氏硬度7～8級，比重約為7.3。由于制造工藝和氧化鈰含量的不同，氧化鈰拋光粉有白色（含量達到98%以上）、淡黃色、棕黃色等。

拋光模層（下墊）材料

常用的拋光模層材料有拋光膠和纖維材料和聚氨酯拋光墊。

1.拋光膠拋光膠又名拋光柏油，是由松香、瀝青以不同的組成比例配制而成，用于光學零件的精密拋光。

2.纖維材料在光學工件的拋光中，若對拋光面的面形精度（光圈）要求不高時，常采用呢絨、毛氈及其它纖維物質作為拋光模層的材料。

3.聚氨酯拋光墊已經在光學鏡片的拋光中廣泛使用。

光學零件的某些質量指標常用測試儀器來檢測。如透鏡的曲率半徑、棱鏡的角度，需要用專門的測試儀器來測量。常用的儀器有：光學比較側角儀、激光平面干涉儀、球徑儀和刀口儀等。

拋光在拋光過程中添加拋光液要適當。太少了：參與作用的拋光粉顆粒減少，降低拋光效率。太多了：有些拋光粉顆粒并不參與工作，同時也帶來大量液體使玻璃邊面的溫度下降，影響拋光效率。拋光液的濃度也要適當，濃度太低，即水分太多，參與工作的拋光粉顆粒減少并使玻璃表面溫度降低，因此降低拋光效率。濃度太高，即水分太少，影響拋光壓力，拋光粉不能迅速散步均勻，導致各部壓力不等，造成局部多磨，對拋光的光圈（條紋）質量有影響。而且單位面積壓力減少，效率降低，拋光過程中產生的碎屑也不能順利排除，使工件表面粗糙。一般是開始拋光時拋光液稍濃些，快完工時，拋光液淡些，添加次數少些，這有利于提高拋光效率和光潔度。另外，一般認為拋光液的酸度(pH值)應控制在6~8之間，否則玻璃表面會被腐蝕，影響表面光潔度。

在拋光過程中檢查光圈（條紋）時，如不合格，可以通過調整拋光機的轉速和壓力、工件與模具（拋光機下盤）的相對速度、相對位移、擺速和修整拋光模層等方法進行修改：

1.提高主軸轉速，能増加邊緣部位與上模接觸區(qū)域的拋光強度。

經驗證明，若速度過高，拋光表面溫度升高，從而使拋光模層硬度降低，影響修改光圈(條紋)的效果。

2.增加荷重以加大壓力時，可提高整個拋光模和工件間接觸區(qū)域的拋光強度，也將使拋光表面的溫度升高，降低拋光模層的硬度。

3.加大鐵筆（上盤主軸）的位移量，可使上盤的中間部位和下盤的邊緣部位同時得到修整。

4.加大擺幅長度，增加擺軸速度會使上盤的中間部位和下盤的邊緣部位加速拋光。

5.刮槽是減少開槽部分的壓力承受面和摩擦面，因此拋光下盤在開槽部分的拋光效力降低。反之，未開槽部分的拋光效力有所增大。均勻開槽時，能使拋光下盤的流動性適合與工件表面的曲率。同時，既能使拋光液含量增加，容易滲入拋光下盤面而増加拋光效力，又能減輕拋光機傳動負荷。